[導(dǎo)讀] 在測量某些元素和某些類型的合金時(shí)，每種技術(shù)都有各自的優(yōu)勢。HH-LIBS適合快速測量低原子序數(shù)的元素如堿性(Li、Na等)和堿土金屬(Be、Mg、Si等);但是并不適合測量高原子序數(shù)的元素如耐火材料元素(Nb、Mo、 W等)。另一方面，HH-XRF適合于測量高原子序數(shù)的元素，但不適合測量低原子序數(shù)的元素如Mg、Al、Si;這使得HH-LIBS成為Mg、Al、Ti 合金等輕合金檢測的更可取技術(shù)。

　　2015年10月1日，布魯克推出新的EOS 500手持激光誘導(dǎo)擊穿光譜儀(HH-LIBS)。EOS 500是專為Li、Mg、Al 、Si輕元素合金的快速化學(xué)分析所設(shè)計(jì)。速度、精度和重復(fù)性等方面，EOS 500有著自己的優(yōu)勢。與手持式X射線光譜儀相比，EOS 500的分析速度大約快10倍。

　　EOS 500適合于質(zhì)量控制(QA)、金屬加工和材料可靠性鑒定(PMI)，是廢品回收相關(guān)行業(yè)對耐久性的要求。堅(jiān)固的設(shè)計(jì)確保了EOS 500能夠承受在幾乎所有的環(huán)境下進(jìn)行現(xiàn)場操作，包括潮濕和灰塵的條件。此外，EOS 500有一個(gè)*的氣體光學(xué)護(hù)罩，在光學(xué)系統(tǒng)的前面創(chuàng)建了一個(gè)連續(xù)的氣體保護(hù)罩，防止灰塵積聚并允許EOS 500在zui嚴(yán)苛的環(huán)境中運(yùn)作。

　　EOS 500使用專有的低背景激光消融原子發(fā)射光譜1064納米波長激光。傳統(tǒng)LIBS系統(tǒng)一般利用高能、低頻激光等離子體發(fā)生器，導(dǎo)致高背景噪音、尤其是在頻譜的低端。布魯克專有的1064納米激光能夠產(chǎn)生強(qiáng)烈的原子發(fā)射信號，同時(shí)不會產(chǎn)生高背景噪音，因此不再需要復(fù)雜的澆注系統(tǒng)。利用這種*的設(shè)計(jì)，布魯克的 EOS 500可以很容易地在幾秒鐘內(nèi)、分析< 0.1%濃度水平、具有挑戰(zhàn)性的元素，如Si、Mg。

　　多探頭的設(shè)計(jì)允許EOS 500覆蓋從170納米到720納米的較長波長范圍，同時(shí)在復(fù)雜的金屬鈦基體下，保持杰出的分辨率。這種較長的波長范圍允許檢測元素，如Li、Be、Cs等。此外，廣泛的波長范圍還允許EOS 500選擇更加合適的波長從而獲得更好的準(zhǔn)確性。

　　“激光技術(shù)的進(jìn)步使LIBS的小型化和便攜性成為可能，如今我們已經(jīng)成功的在EOS 500上完成了商業(yè)化，"布魯克納米分析集團(tuán)HMP業(yè)務(wù)部門總John Landefeld評論。“布魯克迅速提供這個(gè)新的手持系統(tǒng)給我們的客戶，使他們能夠更快、更有經(jīng)濟(jì)效益的工作。在金屬行業(yè)中，作為手持式X射線光譜儀互補(bǔ)技術(shù)的LIBS分析占有重要的位置。"

　　在測量某些元素和某些類型的合金時(shí)，每種技術(shù)都有各自的優(yōu)勢。HH-LIBS適合快速測量低原子序數(shù)的元素如堿性(Li、Na等)和堿土金屬(Be、Mg、Si等);但是并不適合測量高原子序數(shù)的元素如耐火材料元素(Nb、Mo、 W等)。另一方面，HH-XRF適合于測量高原子序數(shù)的元素，但不適合測量低原子序數(shù)的元素如Mg、Al、Si;這使得HH-LIBS成為Mg、Al、Ti 合金等輕合金檢測的更可取技術(shù)，而HH-XRF是測量不銹鋼和高溫合金等的更優(yōu)技術(shù)。金屬行業(yè)的客戶現(xiàn)在可以根據(jù)具體有應(yīng)用選擇的手持測量工具。

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